I-HE 100µ
I-HE 100µ
ID: 17564
Technische Spezifikationen
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I-HE wurde speziell für die Anwendung „PowderBlasting“ (mikroabrasiver Materialabtrag durch Sandstrahlung) und für die Bearbeitung technischer Gläser und Keramiken entwickelt. Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. Im Gegensatz zu anderen Photoresist Materialien und Strahlfolientypen wird I-HE nicht mit alkalischen Lösungen entwickelt, sondern mit Wasser. Chemische Zusätze werden weder zur Entwicklung, noch zur Entschichtung (Stripping) benötigt.
Anwendungsgebiete von I-HE:
- Mikroperforation von Dünnglas (Wafer) und technischen Keramiken
- MEMS packaging
- Lens packaging
- Produktion von Lab on Chip - Systemen
- Gravur von Identifikationsnummern und Firmenzeichen / Logos
- Gezielte Oberflächenstrukturierung von Metall
I-HE ist verfügbar in Rollen
in Materialstärke 100µ.