I-HE 100µ

ID: 17564

Technische Spezifikationen

I-HE wurde speziell für die Anwendung „PowderBlasting“ (mikroabrasiver Materialabtrag durch Sandstrahlung) und für die Bearbeitung technischer Gläser und Keramiken entwickelt. Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. Im Gegensatz zu anderen Photoresist Materialien und Strahlfolientypen wird I-HE nicht mit alkalischen Lösungen entwickelt, sondern mit Wasser. Chemische Zusätze werden weder zur Entwicklung, noch zur Entschichtung (Stripping) benötigt.

Anwendungsgebiete:

Mikroperforation von Dünnglas (Wafer) und technischen Keramiken
MEMS packaging
Lens packaging
Produktion von Lab on Chip - Systemen
Gravur von Identifikationsnummern und Firmenzeichen / Logos
Gezielte Oberflächenstrukturierung von Metall
Rollenformat: 0,21 x 50m

I-HE ist verfügbar in Rollen in 100µ.